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  • 真空焊接ZK金属热沉真空钎焊炉
    真空焊接ZK金属热沉真空钎焊炉

    金属热沉真空钎焊炉是精密制造专用热处理设备,依托真空无尘环境与智能温控技术,实现工件无氧化、高精度钎焊,广泛用于汽配、电子、换热器、精密五金等行业,量产稳定、良品率高。

    更新时间:2026-07-28
  • 铜焊炉真空银钎焊炉
    铜焊炉真空银钎焊炉

    真空银钎焊炉应用真空钎焊炉适配各类陶瓷 - 金属气密封接、晶圆陶瓷载具、高压电真空陶瓷元器件、陶瓷传感器继电器,陶瓷金属封接件、高压陶瓷绝缘端子、微波陶瓷窗口、陶瓷封装管壳。

    更新时间:2026-07-28
  • 真空高温氧化铝与可伐合金陶瓷真空扩散炉
    真空高温氧化铝与可伐合金陶瓷真空扩散炉

    氧化铝与可伐合金陶瓷真空扩散炉是针对氧化铝陶瓷与可伐合金异种材料封接、钎焊、扩散结合工艺定制的专用精密设备,采用卧式规整炉膛结构,适配陶瓷与金属异种材质的精密复合加工。氧化铝陶瓷脆性较高、热敏感性强,可伐合金热膨胀系数与陶瓷匹配度有限,常规设备加工容易出现封接开裂、界面结合疏松、焊缝空洞、材质应力变形、封接气密性不足等问题。

    更新时间:2026-07-28
  • 真空高温陶瓷覆铜板AMB钎焊炉
    真空高温陶瓷覆铜板AMB钎焊炉

    陶瓷覆铜板AMB钎焊炉是针对AMB陶瓷覆铜板、DBC陶瓷基板、陶瓷金属化复合构件专项研发的专用精密真空钎焊设备,聚焦陶瓷与铜层精密键合、低温无缺陷钎焊工艺需求。陶瓷基板具备脆性大、热敏感强、金属层易剥离、焊接精度要求高的特性,普通焊接设备易出现铜层脱落、基板开裂、焊缝空洞、翘曲变形、界面结合不均等问题。

    更新时间:2026-07-28
  • 绝缘基板半导体陶瓷基板钎焊炉
    绝缘基板半导体陶瓷基板钎焊炉

    半导体陶瓷基板钎焊炉主要用于半导体陶瓷基板真空除气、陶瓷与金属薄膜真空钎焊、界面高温扩散结合、焊接残余应力消除、基板精度定型。可以优化陶瓷金属界面结合结构,减少焊缝空洞与微缺陷,提升基板绝缘性能、导热性能与结构稳定性,适配半导体新品工艺研发、试样打样、精密批量量产。

    更新时间:2026-07-28
  • 陶瓷电极氧化铝陶瓷真空钎焊扩散炉
    陶瓷电极氧化铝陶瓷真空钎焊扩散炉

    氧化铝陶瓷真空钎焊扩散炉是占地紧凑的中小批量精密,卧式炉膛布局无需复杂基建,搭载高真空系统与精度分区控温模块,真空度可达10⁻⁴~10⁻⁶Pa。适配PCD刀具、小型医疗钛合金件、异形散热件的小批量生产,也可用于工艺研发试验。单炉循环仅2-3.5小时,焊后工件光亮无氧化,泄漏率小,自带工艺追溯功能,核心腔体使用寿命超15年。

    更新时间:2026-07-28
  • 陶瓷电极陶瓷真空电极真空钎焊扩散炉
    陶瓷电极陶瓷真空电极真空钎焊扩散炉

    陶瓷真空电极真空钎焊扩散炉是针对陶瓷真空电极、陶瓷金属化电极、陶瓷导电复合构件专项研发的一体化钎焊扩散设备,适配陶瓷与金属电极的精密键合、高温扩散、应力缓释、精度定型工艺。陶瓷电备绝缘性高、材质脆性大、热敏感强、电极层贴合精度要求高的特点,常规设备加工容易出现电极脱落、基材开裂、界面空洞、电极偏移、结合不紧密等问题。

    更新时间:2026-07-28
  • 真空扩散真空氮气保护钎焊炉
    真空扩散真空氮气保护钎焊炉

    真空氮气保护钎焊炉是占地紧凑的中小批量精密,卧式炉膛布局无需复杂基建,搭载高真空系统与精度分区控温模块,真空度可达10⁻⁴~10⁻⁶Pa。适配PCD刀具、小型医疗钛合金件、异形散热件的小批量生产,也可用于工艺研发试验。单炉循环仅2-3.5小时,焊后工件光亮无氧化,泄漏率小,自带工艺追溯功能,核心腔体使用寿命超15年。

    更新时间:2026-07-28
  • 真空扩散镍铜铝真空钎焊炉
    真空扩散镍铜铝真空钎焊炉

    镍铜铝真空钎焊炉是占地紧凑的中小批量精密,卧式炉膛布局无需复杂基建,搭载高真空系统与±1℃精度分区控温模块,真空度可达10⁻⁴~10⁻⁶Pa。适配PCD刀具、小型医疗钛合金件、异形散热件的小批量生产,也可用于工艺研发试验。单炉循环仅2-3.5小时,焊后工件光亮无氧化,泄漏率小,自带工艺追溯功能,核心腔体使用寿命超15年。

    更新时间:2026-07-28
  • 真空焊接ZK中型真空钎焊炉
    真空焊接ZK中型真空钎焊炉

    中型真空钎焊炉是一款‌占地紧凑的中小批量精密钎焊专用设备‌,卧式炉膛布局无需复杂基建,搭载高真空系统与±1℃精度分区控温模块,真空度可达10⁻⁴~10⁻⁶Pa。 适配PCD刀具、小型医疗钛合金件、异形散热件的小批量生产,也可用于工艺研发试验。单炉循环仅2-3.5小时,焊后工件光亮无氧化,泄漏率0.1%,自带工艺追溯功能,核心腔体使用寿命超15年。

    更新时间:2026-07-28
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