东莞 CVD 管式炉厂家技术升级 自研智能温控系统优化材料沉积工艺

为适配半导体、新材料实验室、固态电池研发企业高精度工艺需求，东莞市志远工业设备有限公司研发团队完成新一代真空 CVD 管式炉智能控制系统全面迭代升级，多项温控、气氛控制性能实现技术突破。本次系统升级核心优化串级 PID 多段程序控温逻辑，支持上百段自定义升温、保温、降温工艺曲线一键存储调用；同时优化气氛精准配比模块，多路气体独立流量闭环控制，流量控制精度 ±0.1sccm，适配薄膜沉积、粉体烧结、气相合成等精密实验工艺。

升级后的控制系统可适配志远全系列真空管式炉、气氛管式炉、小型实验室 CVD 沉积炉，兼顾高校科研小设备与中试量产大型管式炉使用需求。志远工业始终坚持自主核心技术研发，拒绝外购通用低端控制系统，从底层软硬件层面保障设备长期运行稳定性，助力国内新材料、半导体产业自主化发展。